真空爐是一種用于高溫處理材料的設(shè)備，其特點(diǎn)是在高溫下，將材料置于真空環(huán)境中進(jìn)行處理。真空爐通常由爐體、加熱元件、真空系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)等部分組成。爐體通常由高溫合金材料制成，能夠承受高溫和真空環(huán)境的腐蝕。加熱元件通常采用電阻絲或電磁感應(yīng)加熱，能夠提供高溫的加熱環(huán)境。
選購真空爐要注意的事項(xiàng)
1、選擇真空爐首先要根據(jù)自己產(chǎn)品的化學(xué)成分和所需要的最高的加熱溫度，在極限真空度方面必須滿足金屬氧化物與碳化物平衡分解壓的關(guān)系并且要設(shè)置一定的余量，不要只是一味的追求高的真空度，真空度過高不僅會造成合金元素的揮發(fā)還會造成設(shè)備的配置提高以致于投資費(fèi)用增加。
2、其次要根據(jù)熱處理材料所需的冷卻形式。真空爐的冷卻方式有油冷和氣冷。目前主要為氣冷，氣冷對熱處理零件基本沒有任何污染和不良影響，處理后零件表面潔凈不需要清洗。油冷表面有微滲碳問題，對質(zhì)量有一定的影響，所以在滿足冷卻速度的條件下一般選氣冷淬火。氣冷的冷卻速度主要受氣壓、流速與氣流的形式和分布等因素的影響，在進(jìn)行選擇時(shí)要全面考慮。一般情況氣壓高、流速大、冷卻速度快。另外氣冷時(shí)換熱器冷卻水的流量大小對于實(shí)際冷卻有明顯的影響。不過有的材料卻只能用油冷的方式進(jìn)行淬火，在氣冷的情況下無法達(dá)到其熱處理的工藝水平。所以在選擇冷卻形式的時(shí)候更要根據(jù)材料的類型進(jìn)行選擇。
3、加熱元件的選擇。真空爐加熱元件的形式和材料有一定的不同，一般以板式和棒式為主，材料為高強(qiáng)度石墨。但是近年來碳碳復(fù)合材料的出現(xiàn)以其較大的技術(shù)優(yōu)勢有取代石墨的趨勢。同樣功率的情況下碳碳復(fù)合材料厚度薄相對蓄熱小有利于提高冷卻速度。但是有的材料在高溫下會和C進(jìn)行反應(yīng)，會改變其本質(zhì)，因此這種情況下就無法選擇以C為主材料的加熱元件，而應(yīng)選擇不銹鋼或者鉬等金屬材料作為加熱元件。
4、功能。購買真空爐還要考慮工藝的通用性，即淬火回火使用溫度范圍要寬。特別是處理高合金鋼，回火溫度較高并且淬火后不出爐直接進(jìn)行回火十分方便。
5、控制系統(tǒng)。控制系統(tǒng)是真空爐的核心部分，要確保其可靠性和完善性。最好有監(jiān)控、故障顯示、記錄等功能。
6、其它密封性和真空系統(tǒng)配置的可靠性也是重要環(huán)節(jié)。設(shè)備造型時(shí)不可僅僅從形式力求繁雜，一定要在對比的基礎(chǔ)上力求可靠。
